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半导体行业制造废水中的过滤应用

发布日期:2020-11-20 22:51

半导体生产废水排放量大,废水污染物种类多,成份复杂,通常都包括多种重金属废水和有机废水,处理难度较大。为了保证半导体生产废水的处理效果,须按照污染物的不同将废水分类收集,针对每一类废水的主要污染物的特点,分别进行处理,可达到理想的处理效果。同时,采用先进的废水回用处理技术,保证废水回用处理系统的稳定性和经济性 。
清洗工艺及废水来源

工艺 清洁源 容器 清洁效果
剥离光刻胶 氧等离子体 平板反应器 刻蚀胶
去聚合物 硫酸:水=6:1 溶液槽 除去有机物
去自然氧化层 氟化氢:水<1:50 溶液槽 产生无氧表面
旋转甩干 氮气 甩干机 无任残留物
RCA1#(碱性) 氢氧化铵:过氧化氢:水=1:1:1.5 溶液槽 除去表面颗粒
RCA2#(碱性) 氯化氢:过氧化氢:水=1:1:5 溶液槽 除去重金属粒子
DI清洗 去离子水 溶液槽 除去清洗溶剂
 
问题描述
1.产生废水量大;
2.废水成份复杂,含有各种过渡性质的金属如硅、锗等,同时含有较高含量的氟;
3.废水中含有难以处理的较高浓度的 COD。
 
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技术支持:
如何选择过滤设备—工况调查表
常见流体的粘度;
常见颗粒物的大小及设备选型参考;
常见流体化学适应性表;
选择过滤精度时微米和目数的关系;
常见管道尺寸对照表;
如何挑选合适的过滤袋-过滤芯
过滤机理和形式
过滤行业中的常用术语
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几种过滤方法能耗分析
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